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ZT68 は YF Zhichengjia 自社開発の 600 MPa 級冷間圧造高力アルミボルトです。改質 7 系アルミ(Al-Zn-Mg-Cu)を素材に溶体化+焼入れ+時効で MgZn2 強化相を析出させ、引張 629 MPa、降伏 510 MPa、伸び 8% を実現します。

予塗りロック剤は出荷時点でボルト本体に緩み止め機能を組み込みます。ナイロンインサート形とマイクロカプセル化学接着剤の2ルートを、破壊トルク・摩擦係数・耐温・DIN 267 規格対比で解説します。

ドライフィルム潤滑は MoS2 や黒鉛の層状結晶を結合樹脂で固定し、転移膜効果で長期自己潤滑を実現します。MoS2 は重荷重・真空、黒鉛は大気・導電。選定を誤ると真空環境で黒鉛が逆効果になります。

PTFE はフッ素原子に覆われた超低表面エネルギーの不活性材料で、μ 0.05–0.15、-200〜+260°C の使用温度を持ちます。ねじに塗布された PTFE ドライフィルムがどう無油自己潤滑・非粘着・焼付き防止を実現するか解説します。

Zn-Ni 合金めっきはニッケル 10–15% の合金構造と緻密不動態で、高力ファスナーの中性塩水噴霧を純亜鉛の 100 h 級から 720–1000 h 超に引き上げます。ただし電解プロセスのため 10.9 級以上はめっき後の脱水素焼付けが必須です。

ダクロはフレーク状亜鉛・アルミ粉末を主体とした非電解複合防食皮膜で、水素脆性がなく 500–1500 h の中性塩水噴霧を達成します。三層防食メカニズム、工程温度曲線、有クロム/ノンクロム選定を解説します。

CVD は高温真空反応でガス状原料から TiC/TiN/Al2O3 などの緻密硬質膜を「育成」します。被覆均一性、耐熱、耐食はトップクラス。ただし 800–1000°C の高温が 10.9/12.9 級高力ボルトを回火軟化させるため、使いどころを選びます。

PVD は真空中でチタン・クロムターゲットをイオン化して TiN/TiCN/TiAlN/CrN 等のナノ硬質膜を成膜する低温プロセスです。水素脆性なし、1800–3500 HV、膜厚 1–5 μm でねじ寸法不変。電気めっきとの境界とファスナー選定を解説します。

DLC は真空槽内で高純度炭素から成膜する非晶質炭素膜で、sp3 の高硬さと sp2 の低摩擦を併せ持ちます。1500–3000 HV、μ 0.05–0.2、水素脆性なし。ステンレス焼付き・高頻度摩耗・無油清浄組立をどう解決するか、ta-C 改質も含めて解説します。

LCコーティングはファスナー専用の耐食+自己潤滑複合機能皮膜で、真空 LC-DLC と有機ドライフィルムの2つの工程ルートがあります。成膜原理、膜厚 0.3–3 μm、摩擦係数 0.05–0.15、500–1500 h 中性塩水噴霧などの実パラメータと、亜鉛めっき・DLC・ダクロとの選定境界を解説します。